活性炭吸附凈化除臭裝置 活性炭吸附除臭設備 光催化除臭設備 光氧催化廢氣處理裝置 UV光解凈化器設備 光解氧化除臭設備 uv光解除臭設備 廢氣酸霧凈化塔
光氧催化設備和等離子廢氣處理設備各選用什么原理?
關于光氧催化設備等離子廢氣處理設備主要是使用了等離子分化技術和UV紫外光解技術結合,對廢氣和臭氣進行高效協同凈化處理:有機廢氣和惡臭氣體進入集成設備后,通過UV紫外光束區時,被紫外光波高能高效率地照耀,瞬間產生光解反響;通過等離子體電場時,在納秒級時刻范圍內,產生裂變分化反響;如此協同高效地產生一系光解和分化反響,通過多級凈化后然后合格排放。
C波段光氧催化設備催化廢氣管理技術,是一種使用新式的復合納米高科技功用資料的技術,選用***前的三重祛異味原理。
1、一重凈化:選用UV雙波段照耀廢氣分子,產生游離電子及電子空穴,生成極強的光氧催化設備復原功用,可氧化分化各種有機化合物和部分無機化合物,廢氣分子吸收了紫外線的能量后,細菌分子的DNA(脫氧糖核酸)與核蛋白之間的開裂,形成核酸與蛋白的交聯損壞,到達一重除臭凈化效果;
2、二重凈化:光氧催化設備催化在開釋很多C波段紫外線氧化分化惡臭廢氣分子一起并產生臭氧,臭氧極易分化,有很強的氧化功能損壞分化細菌的細胞壁,能很快地分散透進細胞內,氧化分化有毒有害的廢氣分子,直接損壞廢氣***分子聚合物。3.三重凈化:光觸媒納米粒子在***定波長的光線照耀下受激生成電子空穴對,空穴分化催化劑外表吸附的水產生氫氧自由基,電子使其周圍的氧復原成活性離子氧,然后具有極強的氧化復原效果,將光催化劑外表的各種污染物炸毀,后將其分化成無污染的水(H2O)和二氧化碳(CO2)。
低溫等離子廢氣處理機理包括兩個方面:一是在高壓放電產生等離子體的過程中,高頻放電所產生的瞬間高能滿足翻開一些有害氣體分子的化學能,使之分化為單質原子或無害分子;二是等離子體由所以高壓放電產生,其間包括很多的高能電子、正負離子、激發態粒子和具有強氧化性的自由基,這些活性粒子和部分臭氣分子磕碰結合,在電場效果下,使臭氣分子處于激發態。當臭氣分子 取得的能量***于其分子鍵能的結合能時,臭氣分子的化學鍵開裂,直接分化成單質原子或由單一原子構成得無害氣體分子。一起產生的很多·OH、·HO2、·O 等活性自由基和氧化性極強的O3,與有害氣體分子產生化學反響,終生成無害產品。